采用高精度的衍射光栅刻划机刻划依然是制作高质量母光栅最重要的手段，因此，跟踪世界光栅刻划机的最新技术进展具有重要的现实意义。文中主要对工件台的双重定位技术和分度运动中的间歇式与连续式的技术融合进行了阐述，并指出了衍射光栅刻划机的发展趋势。

本文介绍以８０３１单片机为核心研制成的衍射光栅刻划机的开环控制的高精度定位系统。系统中采用了光栅干涉仪、程控放大器、干涉条纹细分和马达分级调速等方法，本系统既具有闭环控制的高精度特点，又具有开环控制简单、易操作等优点。实用表明：该系统控制的刻划机的定位精度σ＝３．６ｎｍ，最大定位误差为１４．６ｎｍ。