超光滑碳纳米薄膜低黏附特性及其机理研究

简介

纳米表面的低黏附通常采用增加表面粗糙度或表面构型来实现。对电子照射和离子照射制备的碳纳米薄膜进行表面形貌表征和黏附特性测试。结果表明,黏附力受到表面粗糙度和接触面积的共同影响,离子照射制备的碳纳米薄膜具有平均粗糙度为0.12 nm的超光滑表面及弹性变形内4.3 nN的低黏附特性,其超光滑低黏附特性对微纳器件表面开发具有重要的意义。