AFM在不同参数下实现阳极氧化纳米加工
用原子力显微镜(AFM)研究了电场诱导氧化理论以及偏置电压和脉冲时间对加工结构尺寸的影响。通过实验得出了偏压、脉冲时间越大,加工尺寸越大的结论。并总结出氧化加工Si较好的参数范围。
GaAs基微机械加工技术
为了进一步提高传感器的灵敏度,提出了利用GaAs半导体材料来突破硅的极限,阐明了GaAs材料的优越特性和发展GaAs基MEMS的必要性。概述了GaAs微机械加工的刻蚀技术、体微机械加工技术和表面微机械加工技术的特点,对相应的GaAs微机械加工工艺进行了举例分析,并介绍了国内首次制作的GaAs基MEMS微结构,为GaAs MEMS的进一步发展奠定了基础。
LOGO!和STEP7定时器功能的比较与分析
LOGO!和STEP7的定时器都具有接通延时、断开延时、保持接通延时、边缘触发延时和脉冲输出功能,LOGO!还有通/断延时定时器、对称时钟脉冲、异步脉冲和随机发生器功能.LOGO!应用于小型的自动化作业,对现场设备和过程集中控制,其功能专一,种类齐全,易于操作.STEP7有五种定时器,功能强大,不仅具有延时功能,还能实现或监控时间顺序,可提供等待时间、监控时间、测量时间,完成基于时间的计数功能,产生一定宽度的脉冲,可检验定时器的信号状态并组合布尔逻辑操作结果,适用于复杂的自动化控制系统.
玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究
介绍了双面光刻对准原理及技术新发展,表明了不变焦对准的技术优势。针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样,经重新调焦,利用基片透明属性透过基片标记观测掩模标记实现对准,不再采用静态存储的掩模数字图像作为精对准基准,规避了可能由物镜侧移带来的对准误差。最后提供了几种常用的对准标记图样,并为了加工操作的便利引入了辅助搜索线。
反馈补偿对高Q值加速度计动态性能的影响
高Q值MEMS电容式加速度计因具有很小的机械噪声,满足于高精度测量的需要,但欠阻尼的传感器系统动态性能较差,因此需要在闭环检测电路中通过补偿反馈模块施加电学阻尼,以降低系统Q值,改善系统的动态响应。首先通过MATLAB/SIMULINK仿真建立了带有延时的系统模型,进一步结合实际PCB板的测量,分析了不同反馈补偿参数下的阶跃响应和幅频响应曲线。实验结果表明,合适的反馈补偿参数能有效地降低系统Q值,改善动态响应。最后得出了该电容式加速度计在闭环系统下的较优比例微分参数的选择策略。
非介入式智能超声波流量计
介绍了单片机控制的非介入式超声波流量计的工作原理及其在半导体器件生产中的应用,并给出发射及接收部分的实际电路。
高有效孔径比面阵石英微透镜阵列研究
为了提高可见光CCD图像传感器的填充因子从而提高CCD的信噪比,在石英基片上制作了516×516元的微透镜阵列.本文对石英微透镜阵列的制作工艺过程进行了详细讨论.最后的测量结果表明所制作的微透镜阵列有优良的表面轮廓和较好的几何尺寸均匀性.其实测有效孔径比可达到92.8%,极大提高了微透镜阵列的聚光效率.
基于电流变效应的超精密工件台研究与展望
通过分析超精密工件台系统的研究现状和存在问题及电流变液ERF的机理和应用现状,提出"基于ERF半主动阻尼的直线电机驱动-气浮/磁浮导轨"纳米级超精密工件台系统.介绍了国内外相关研究,分析了此工件台系统具有的特性及尚待解决的问题.
基于Si塑性变形的二维驱动器的设计
设计并制作了一种新型的基于Si塑性变形的二维驱动器,驱动器由外围垂直驱动和内部水平驱动两部分组成。驱动器的制作采用普通Si片Si-Si键合技术,首先在结构片正面制作出绝缘填充槽,以实现垂直驱动部分和水平驱动部分的电绝缘,然后利用DR IE干法刻蚀技术释放结构,最后通过Si的塑性变形工艺使驱动器外围垂直驱动部分的可动梳齿和固定梳齿在垂直方向上产生位错,成功制作出二维梳齿驱动器。经测量,驱动器垂直驱动部分可动梳齿和固定梳齿的位错量为19.8μm。
基于原子力显微镜的微桥机械特性测量
研究了基于原子力显微镜(AFM)的微桥机械特性的测量方法。通过微机电系统(MEMS)技术制备了可用静电力驱动进行机械振动的金属微桥。利用一套改进的商用AFM实验装置对测量方法进行了优化,并对微桥的共振频率进行了测量,所得实验结果与理论估算和仿真计算的结果基本一致。基于AFM的微桥机械特性的测量具有精度高和容易实现的特点,可作为测量平台扩展用于薄膜材料或微量液体的内耗、粘弹等性质的表征。











