设计了电子芯片冷却实验装置,对热电制冷器在电子芯片冷却中的冷却效果和制冷性能进行了研究。实验结果表明,不仅热电制冷片热端冷却水流量是影响冷却效果的重要因素,而且热电电流和芯片功率与热电冷却性能也有着密切的关系。实验结果对热电冷却器的最佳冷却性能的确定具有一定的参考意义。

圆形薄膜周边夹持预应力调节对静电薄膜反射镜面形的成形质量具有重要的调节作用。分析了180mm口径的静电薄膜反射镜边界位移的调节范围,计算出了相应调节极限,并结合静电拉伸薄膜实验进行了四种边界位移调节工况的验证。预应力施加过大会造成电极施加电压增高,严重时造成薄膜击穿,但预应力施加过小会造成面形质量不佳。最大边界位移调解量影响薄膜反射镜结构参数和所施加电压,同时薄膜反射镜结构参数和所施加电压也限制着最大位移边界调解量的取值。合理选取并精密控制圆薄膜的边界位移量对于大口径静电薄膜反射镜的精确成形来说至关重要。

对以玻璃为基材的微透镜阵列的制作工艺进行了研究,得出了影响微透镜阵列制作的三个主要因素：玻璃组分、腐蚀方法以及抗蚀掩模层材料。并通过实验详细分析了这三者对实验结果的影响。根据分析结果,选择合适的材料和工艺方法,获得了效果较好的玻璃微透镜阵列,为玻璃微透镜阵列的制作提供了依据和方法。

磁-光显微成像检测由于受到光强的变化、磁-光薄膜磁畴的变化等外界因素影响，检测系统获取的胁光图像的分辨率不高。文章从涡流激励装置的设计、磁-光薄膜的选择及制备和图像处理的设计出发，分析了影响磁-光图像分辨率的因素，提出了相应的改善办法，并进行了大量的试验验证，实验结果验证了该设计方法的可靠性。

介绍了一种电子散斑测量仪（ＥＳＰＩ），对其测量原理，仪器结构进行了描述，分析了热加载测量机理，用热加载方式对铝蒙皮蜂窝站结构复合航空材料脱粘缺陷进行了无损检测（ＮＤＴ）得到了满意的效果。

随着微加工技术的发展和日益成熟，微型化光谱仪的研究得以快速发展。和传统的微型光谱仪相比，基于调制原理的光谱仪具有高光通量、高分辨率的性能优势，可广泛应用于生物、化学、医学等许多领域中对微弱辐射信号的探测。介绍了几种类型的调制光谱仪的结构特点和关键技术，分析了设计与制作微型调制光谱仪过程中存在的一些关键问题与难点，并总结了该领域的研究进展和发展趋势。

采取在光学基板背面挖减轻孔的方法来实现对干涉式大气垂直探测仪的光学基板进行了轻量化设计。通过有限元分析的方法首先确定最合理的减轻孔个数，然后采用有限元参数优化的方法对减轻孔的长、宽两个设计参数进行了优化，从而获得光学基板的最佳设计方案。轻量化后光学基板的质量减少到了原来的25％，因此光学基板的轻量化设计为今后航天仪器光学基板结构的设计提供了理论依据。

介绍了大视场CCD（电荷耦合器件）拼接相机的组成和测量原理，分析了物像空间对应的坐标关系，指出了影响大视场光电测量设备精度的原因是相机内方位元素的准确性和光学畸变校正效果。提出了基于像面坐标系在大地坐标系下投影的高精度CCD拼接相机内方位元素的标定方法，该方法建立了CCD拼接相机模型和光学畸变校正模型，使用多元回归分析方法，标定了相机的内方位元素与畸变系数。大量试验结果验证了该标定方法的正确性，该方法对其他光电测量设备具有参考价值。

针对反射式光电经纬仪的主镜,建立了热分析模型,模拟分析了在无施加和施加温控载荷两种情况下,环境温度对光电经纬仪主镜变形的影响。分析结果表明在给定的镜面变形指标下,随着口径的增大,光电经纬仪的保精度工作温度范围缩小。对径厚比为21：4的K9玻璃主镜,在无施加温控载荷的条件下,当主镜口径小于315mm时,在-40～50℃的环境温度范围内,主镜变形小于55nm。在施加背面接触温控载荷的条件下,当主镜口径小于525mm时,在-40～50℃的环境温度范围内,主镜变形小于55nm。

分析了光电平台的工作环境和角振动对成像质量的影响，应用空间机构学原理和减振理论，设计了一种既具减振功能又能抑制角位移的无角位移减振机构。对减振机构的减振机理及运动特性进行了分析，并利用三维建模软件和MSC．Visual Nastran 4D仿真分析软件对该减振机构进行了三雏实体仿真分析，通过输出的仿真数据及曲线检验无角位移减振原理的正确性。