极紫外投影光刻（EUVL）两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点，并依据有限距反射系统像差理论，从解析解出发，设计了两套平场两镜系统，分别用于对分辨力为70nm、无遮拦、环形视场扫描曝光系统及目前研制的EUVL 32nm技术节点小视场曝光系统的研究。系统设计指标满足极紫外投影光刻要求。

<正>采用微机械加工技术,可以制作各种各样的小型探测器和高度集成化的微系统.微机械加工的特点是可采用比用半导体微细加工技术的精密加工自由度还高的加工工艺,制作立体的微型结构.此外,还有可制作机械性能更加灵活的结构和可批量生产等优点.通过将各种探测器和致动器集成化,可构成复杂的微系统.针对小型化、高集成化和高精度化的要求,加工精度及器件的尺寸等已经开始向纳米级方向发展.随着从微米级向纳米级尺寸的变化,在光学领域也正在展开定域的近场光学器件的研究.这并不是说一味地缩小器件就是好事,问题是经过缩小的器件的性能要得到提高,或者赋与器件新的功