选取多个钨丝均匀的分布在一个圆周上，形成一个环状蒸发源。把每个钨丝看成一个标准的点蒸发源，与LAMOST子镜建立模型形成一个蒸发沉积系统。把镜面离散成一个致密的具有特定坐标点的阵列，把每个点蒸发源对镜面上特定点的膜层厚度的贡献相加，从而得出膜层厚度的采样值。文章分析了点源的个数、圆环的半径、源基距、以及蒸发源的发射特性对膜层均匀性的影响，最终确定选取了12个钨丝，把源基距定为0．8m，把圆环半径定为0．55m。设计了相应的挡板实现了膜层不均匀性低于5％的要求。