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真空自励研磨抛光工艺的研究

作者: 张忠玉 王权陡 周军 周德俭 来源:光学精密工程 日期: 2023-08-21 人气:8
真空自励研磨抛光工艺的研究
详细地阐述了真空自励研磨抛光盘的工作方式、基本原理,并在对120×120mm厚径比小于1/60的超薄镜面实际加工中,成功解决了磨头自身重力对工件变形的影响,降低了元件在加工中支撑要求,有效地解决了超薄元件的数控加工难题.
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