显微干涉测量方法是一种被广泛使用的高精度表面测量方法，其中相移器的性能直接影响到系统测量的精度．对MEMS测量系统中使用的压电陶瓷相移器的主要误差源，包括迟滞、非线性和蠕变等进行了分析，并对开环条件下的相移器运动进行了标定．实验分别在开环和闭环条件下测量了经过NIST认证的标准44nm台阶，说明了两种条件下的测量精度，10次测量的平均值分别为41．34nm和43．24nm，标准偏差分别为2．08nm和0．41nm.

论述了数字光电轮廓仪的研制.以6JA型干涉显微镜为主体,分别介绍了相移器设计和控制、图像采集系统、样机控制电路,对测试的结果指标进行了分析.

相移器的相移误差包括平移误差与倾斜误差，使同一幅干涉图诸像素点的相移量并不相等，但仍然在同一平面上。据此，本文提出了消除相移器位移误差与倾斜误差的最小二乘迭代算法。通过对相移平面的最小二乘拟合，即可以消除相移器平移误差与倾斜误差对位相分布求解结果的影响。并通过数值模拟，验证了这种算法在消除相移器位移误差与倾斜影响上的有效性。

应用相移干涉术测量物体表面微观形貌时,相移器的移相误差直接影响测量精度.在四帧干涉图情形下,推导出了对移相误差不敏感的相位解算方法.算法将相移误差因子作为中间可代换变量,它的大小随机变化不影响相位计算结果,即相位计算式与相移误差因子无关.对标准正弦样板进行的实验验证表明,该算法有效地抑制了移相误差对形貌测量的影响,进一步提高了表面微观形貌的测量精度和测量可靠性、提高了测量系统的整体性能指标.