介绍了自行研制的FLY-I非球面轮廓仪的设计以及测量软件数学模型,其实用精度为1～2 μm.光学元件的抛光精度取决于精磨精度,本实验室现有的LOH高精度铣磨机床经过对第1次精磨后的光学元件面形进行修正,2次精磨后其精磨精度可达到2 μm.研究了这一非球面轮廓仪以配合LOH铣磨机床,测量得到1次精磨后的面形误差数据,经过误差反馈进行2次精磨,以保证光学元件的精磨精度.通过多次实验以及数据处理、分析,证明自行设计、装调的非球面轮廓仪达到了设计的精度要求,可满足实验室,光学加工车间对小型非球面精磨阶段面形的检测要求,即精磨面形误差在2 μm以内,同时也可直接用于中低精度非球面光学元件的最终检测.

<正> 非球面元件可以使复杂的多元件设计变得异常简单,同时它们可以提高设计者设计出高性能光学系统的能力。在一个多元件系统中,一个非球面元件可以替代两个,有时是三个球面元件。对于红外(IR)系统来说,非球面可以使用,因为很多红外材料都适合于单点金刚石车削。与此相反,可见光系统当中所使用的脆性光学玻璃是典型的不适合于金刚石车削的材料。

针对RB-SiC反射镜工程实践中暴露的一些问题,对RB-SiC反射镜的材料制备、表面改性及非球面加工等技术进行了研究。首先,依据其改性特殊性,选取了与RB-SiC反射镜材料热胀系数匹配的新型支撑材料进行热匹配设计。接着,依据实际工程情况对非球面加工工艺及流程进行技术改进,以提高加工的可靠性。最后,采用试验的方法对RB-SiC反射镜的相关加工方法进行了试验验证。试验结果表明,改性后RB-SiC反射镜完好,改性前后镜面面形精度RMS值变化量仅为0.017λ（λ=623.8 nm）,变化率为13%,非球面加工周期缩短了1~2月。该技术确保了RB-SiC反射镜10μm的改性膜层在后续加工中的加工余量,使其不易被磨漏,提高了加工的安全性,缩短了非球面加工周期,该技术亦适用于其它SiC反射镜的制备及非球面加工。

研制了一个通光口径Ф0=300nm，放大倍率为50倍的透射无光焦度系统．此光学系统为改进型的开普勒型无光焦度系统，它解决了伽利略型无光焦度系统没有实焦点、不能放置消杂光光阑、开普勒型无光焦度系统轴外像差不能校正的问题．系统光学材料全部采用德国进口Schott熔石英玻璃，物镜为高次非球面．经数字干涉仪检测，物镜系统最终面形误差峰谷值为λ／10，均方值误差优于λ／60．

报告了计算机控制应力变形抛光盘加工大口径高陡度非球面技术的发展精况，讨论了这一方法的理论基础；给出了应力变形抛光盘的数学力学原理与结构特点；研究了机床的整体机械设计与电学系统设计原则；探讨了应力变形盘与抛光磨头轴的连接方式；最后讨论了发展这项新技术的若干初步考虑。

可见光谱在0.4一0.7微米波段，可见区外，来有较宽的电磁波谱带。波长由0.7一1000微米的电磁波被称为红外线。其中，近红外在0.7一2微米，中红外在2一14微米间，14一1000微米，则看作为远红外。通常卤化银感光乳剂能记录物像，但光波波长不能大于2微米。

研制出了一种能在外场使用的哈特曼物镜，该物镜口径为300mm，焦距800mm，视场为-1～1mrad，在0．532nm、0．6328nm、1．064nm三种波长（λ）下工作，主波长为0．6328nm。该系统光学材料全部采用德国进口Schott熔石英玻璃，物镜是高次非球面，用WYKO干涉仪检测，检测结果表明物镜波面误差PV值为λ／12，均方根值RMS优于λ／100。