对用波差与表面斜率误差评价光学元件面形误差的方法进行了比较和讨论.以具有不同面形精度的光学元件,在不同的数据处理方法下得到的结果为例,说明此两种面形评价方法在数据处理方法不同时在数值上的联系.

介绍了反射(折反)式望远镜物镜结构形式的发展,归纳和总结了典型结构的光学元件曲面形式和系统像差情况.

航天及其它特殊领域的工作环境，会使光学元件的形状及内部应力发生变化，进而对其光学特性产生明显的影响，本文运用有限元法，在考虑大加速度引起的惯性载荷的影响的同时，对不同环境温度下元件形状及内部应力的变化亦作了初步的研究。

<正> 近年,塑料光学件得到广泛的应用,并已形成大批量生产。塑料光学件与玻璃材料相比具有几大长处,其中特别是可进行廉价的大批量生产,产品的成本降低,进而开拓新的市场,这对我们的生活产生很大的影响。另一方面,从材料性能看,与玻璃相比不足的地方很多,不能轻易地采用塑料。本文主要叙述塑料光学件的成形现状及外围技术。

介绍了电磁波在等离子体中的传播以及用外差干涉的方法测量托卡马克装置等离子体电子密度的原理，详细讨论了在ＨＴ－７超导托卡马克上用于密度诊断测量的五道ＨＣＮ激光干涉仪光路的主要光学元件，如各类分束片、托卡马克密度诊断窗口的和厚度的设计以及光学材料的选择，并在实验中得到了委 结果，验证了设计的合理性和准确性，五道的位置分别为沿小环圆截面－２０ｃｍ、－１０ｃｍ、０ｃｍ、＋１０ｃｍ、＋２０ｃｍ。

同步辐射，即用加速带电粒子产生的辐射，对要求使用X射线进行研究的那些研究项目有重要意义。同步辐射的使用，对相当广泛的学科，包括物理学、化学、生物学、材料科学和医学等有重要影响。目前正在运转的存储环光源X射线的亮度(单位时间，单位能带宽度，单位面积和单位立体角发出的光子数)比cornell300MeV同步辐射源X射线的亮度大很多数量 级。目前在世界范围内正在建造的第三代同步辐射源系列，将很决地从它的插入装置中发射出更亮的光束.插入装置是一些周期分布的磁极构造，它使圆形轨迹运动的带电粒子经历一个正弦形轨道加速，进而产生比弯形磁体辐射更强的辐射束。然而，随着光束亮度的增加，使与之相遇的X射线光学件的热载荷随着增加。

光学元件“缺陷”制约着高功率固体激光装置负载能力的提升。从统计角度建立了振幅调制型“缺陷”模型，并针对神光Ⅲ原型装置助推放大级分析了“缺陷”分布的统计参量与光束近场质量的关系，得到了一般规律。结果表明，“缺陷”总密度的增加和幂指数的减小都使系统输出光强的中高频成分增加，光束近场质量变差；总密度的变化引起光强各中高频成分变化的幅度近似相等，频率间相对比重基本保持不变，幂指数的变化却会引起各频率间相对比重发生变化；一定范围内，“缺陷”尺寸越大对近场质量的影响越严重；对于助推段，需将元件的“缺陷”总密度控制在600cm^-2以下，幂指数控制在2．5以上。研究结果可为降低元件的损伤风险以提高系统的运行负载提供参考。

分析了四分之一波长膜堆和金属介质增强激光反射膜的吸收，计算和测量了连续波高功率激光辐照下光学元件的热变形．对理论计算和实测结果进行了比较。

在扼要描述了光学元件表面轮廓测量中功率谱密度(PSD)函数的基本概念、公式和应用基础上，重点讨论了光学元件表面低频和中高频空间频率PSD对光场分布的影响，并给出了强激光光学元件表面PSD函数曲线的几个实测结果。

PIV技术突破了单点测量限制,是一种可以同时获得流场中多点测量流体或粒子速度矢量的光学图像技术,集'可视化'与'定量测量'于一体,是一种现代化的流动显示与测量技术.实验时在流场中播入粒子,用激光脉冲器发出激光束经过一系列光学元件形成可调制的激光片光源照射流场,用多次曝光记录粒子场在不同时刻的图像,测出在已知时间间隔△t内流体质点(示踪粒子)在某切面上的位移△→x,即可算出粒子的速度vp,此项技术在YJ380型液力变矩器内部流场实验中应用取得理想效果.