针对目前工业领域对平面零件面形低成本测量需求,提出了一种基于带通滤光片的干涉测量方法。该方法根据分振幅干涉的原理,使用两个中心波长相差10 nm的滤光片分别放置在工业摄像头上,拍摄两组准单色光干涉图样,通过对比处理实现干涉条纹级数排序。然后使用Zernike多项式对完成排序的干涉图样进行拟合,获得环形工件面形,最后应用最小二乘法摆正,获得所测工件的面形精度信息。通过理论分析及实测对比验证了该方法的可行性。

本文研究了掺有手性分子的反射式液晶滤光片的光学特性以及手性液晶膜用于滤光片的可行性.利用Jones矩阵法对其透射光谱特性进行了分析和数值计算,同时制作了手性液晶盒并对其透射光谱进行了测量.从数值计算和实验结果可知,利用掺有手性添加剂的液晶材料可以反射某种特定波长的入射光,起到一种窄带滤光片的作用,利用此特性制成的液晶偏振滤光片膜可用于各种类型的光电防护.

由安光所自行设计的高精度分光光度计目的是高精度测量滤光片透过率。该系统特点是基于双光栅单色仪的全自动单光束测量仪器。在出射光路中引入了积分球，用来消除光束的偏振性和不均匀性，而且在信号接收部分提出了将滤光片和探测器作为整体考虑，优点是接近滤光片的实际使用环境，减少了其实际测量误差。着重叙述了该仪器的设计过程和不确定度分析。测量的不确定度源包括光源的稳定性，双单色仪重复性、再现性，光束的均匀性，内反射，探测器线性、稳定性、偏振性、均匀性，系统杂散光。经本仪器测量的滤光片透过率合成不确定度为5．859×10^-2，完全满足测量精度要求。

介绍了３５０１型在线红外分析仪的结构及检测原理，分析了单光单气室红外分析仪出现负值的原因。

根据闪电探测的需要,利用Anderson局域的概念,以SiO2和Ta2O5为介质材料,设计出了带通位置为闪电特征峰的超窄带通滤光片.统计结果显示,该滤光片的峰位、半峰宽和透过率受每层膜厚随机涨落的影响较小.通过ZZSX-800型真空镀膜机对所设计的膜系进行实际镀制,获得了性能优良的超窄带通滤光片.

文章以实验数据为依据，说明了在色散型红外分光光度计的检定工作中，国家计量检定规程《色散型红外分光光度计JJG681－90》中杂散辐射滤光片波数覆盖面的断档现象，有些是可以弥补的。适当地延长波数覆盖面，有的波数段的检测就可以用相邻波数段的标准器来囊括，可省一台标准器，这就使建标和检定工作更简要更合理。

随着信息技术的发展对高密度波分复用（ＤＷＤＭ）滤光片的需要越来越大。而高精度性能的光学薄膜膜厚监控系统是制备ＤＷＤＭ滤光片的关键，文中论述了所建立的制备用１００ＧＨｚ～５０ＧＨｚ ＤＷＤＭ滤光片的高精度高性能的光学膜膜厚监控系统。该系统的波长分辨力的０．１ｎｍ，重复性精度为±０．０５ｎｍ，信噪比与温度漂移特性分别±０．０１％和０．０５％／ｈ。还论述了该系统的实际实验结果。

介绍了带宽系列３０～４０ｎｍ的硬矩形化带片的设计和制造方法。采用七半滤系以获 得形化程度较高的通带波形和深度的背景抑制特性（ＯＤ５～ＯＤ６），结合工艺特性和允差模拟分析对膜系进行优化设计。采用光学过正极值法监控膜厚，彩非球面夹具解决膜厚均匀性问题，文中给出了设计和测试结果。

克莱特（KLETT）光电比色计是用于测量液体Klett色泽值的仪器,单位是Klett,根据比尔定律,它与溶液固定波长的吸光度成比例,它广泛用于化学工业。克莱特光电比色计可使用滤光片进行色度和浊度分析,从而获得Klett数值。

日立557型双波长双光束分光光度计由微型计算机进行控制和数据处理,可在190nm一gO0nm内进行双波长自动扫描并绘制光谱吸收曲线,是适合研究领域定量和定性分板的多功能Uv一vIS分光光度计。