预退火温度对高磁感取向硅钢初次再结晶织构的影响

　　高磁感取向硅钢的高磁感应强度得益于其基体中趋于一致的高斯织构—{110}<001>。高斯织构是在二次再结晶过程中，{110}<001>晶粒通过吞食其它初次再结晶晶粒而形成的[1]。在初次晶粒中，具有{111}<uvw>、{110}<uvw>取向的晶粒之间的晶界具有较高的迁移率[2]，所以{110}<uvw >织构特别是{111}<112> 织构是取向硅钢有利的初次再结晶织构。提高板材中{111}<112>初次再结晶织构是提高产品磁性能的有效途径之一。本文试探讨预再结晶退火对高磁感取向硅钢初次再结晶织构的影响。

　　1 试验材料与方法

　　试验材料为商业用0.285mm厚Fe-3%Si高磁感取向硅钢的冷轧板，分别在800、950、1050和1120℃的箱式炉中进行20、5、5和5s的预退火，退火气氛为干燥的H2+ N2混合气体。待试样空冷到室温后，对其进行840℃×4min的脱碳退火，脱碳退火气氛为加湿的H2+N2混合气体。

　　采用扫描电镜电子背散射衍射(EBSD)和X射线衍射分析方法对脱碳退火后的试样进行晶粒尺寸、织构分析。在试样完成二次再结晶退火后，进行轧向P17/50和B8的磁性测量，试样尺寸为30mm×300mm，每组三片试样，测量结果的平均值作为最终分析结果。

　　2 试验结果

　　2.1 晶粒尺寸及成品磁性

　　晶粒尺寸及成品磁性如表1所示。由表1可见，预退火后晶粒尺寸差别不大，但各工艺的再结晶晶粒尺寸存在着一定的差别。B8值以800℃预退火为最高，随着预退火温度的升高，B8值逐渐降低。

　　2.2 织构

　　各组试样Phi2=0°和45°的ODF截面如图1所示，该图揭示了不同预退火处理及脱碳退火后试样的织构状况。

　　Phi2=0°和Phi2=45°的ODF截面图上理想织构位置如图2所示。对照图2可见，图1(a)冷轧板的形变织构是以近{111}<110> 织构为中心的α-纤维和γ-纤维织构，包括旋转立方织构(001)[1，-1，0]，未经预退火处理的再结晶织构以{111}<112 >为主(图1b)。在各个预退火试样中，均存在着以近{111}<112>织构为中心的γ-纤维织构以及其它取向，各试样织构差别不大，如图1(c)、1(e) 、1(g) 、1(i) 所示。

　　从图1可以看出，经预退火处理的再结晶织构同样以{111}<112>为主，但都存在着其它一些织构组分，且随着预退火温度的升高，其它织构组分的强度存在着一定的差别(图1d、f、h、j)。由各预退火试样再结晶织构的ODF截面图可见，其它织构组分主要有四种类型，如下图3所示。

　　根据四种织构组分在ODF截面图上的位置进行计算，其具体位置和指数如下表2所示。