利用从俄罗斯引进的ＡＤ－１０００数控研舅光机对Φ３３０ｍｍ×３５ｍｍ、２３０ｍｍ×２３０ｍｍ×４０ｍｍ再会愉Ｋ９材料平面光学元件进行计算机控制抛光工艺研究。通过工艺研究全面熟悉了设备的技术特性和工艺软件特性，验证了ＡＤ－１０００数控研磨抛光机在加工高精度光学元件基板方面Ｐ－Ｖ、ＲＭＳ值收敛效果明显，较传统加工方法在效率上有极大提高。

采用环行抛光技术是实现大尺寸、高面形精度和细表面粗糙度要求的方形或长方形平面元件批量化加工的一条有效途径.介绍了利用环行抛光工艺实际制作了两块320 mm×320 mm×35 mm和320 mm×320 mm×48 mm UBK7材料的工艺实验样品.加工结果是,透射元件获得了镀膜后双次透射波前0.293λ(P-V,λ=0.6328 um)和反射元部件的反射波前0.22λ(P-V,λ=0.6328 um)的结果.

采用不同的数值计算方法求解了大口径（340mm×340mm）方形离轴非球面的最接近球面曲率半径和非球面度，得出了各种不同的磨削量及其对应的分布结构。对不同的最接近球面及非球面度所适用的加工工艺和检测方法进行了分析和评价。这对离轴非球面的加工和检测具有一定的指导意义。

抛光盘去除函数的确定是数控抛光技术的应用基础，以Ｐｒｅｓｔｏｎ方程为基础，应用运动学原理推导了抛光盘在行星运动及平转动两种运动方式下的材料去除函数，并通过计算机模拟出相应的工作特性曲线。结果两种运动方式下工作特性曲线均在不同程度上趋近于高斯曲线。因而行星运动及平转动都可作为抛光盘的运动方式应用在ＣＣＯＰ中，使加工中的面形误差得到收敛。