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短焦距变焦物镜设计

作者: 程珂 周泗忠 张恒金 来源:光子学报 日期: 2024-07-24 人气:6
短焦距变焦物镜设计
介绍了机械补偿式三组元连续变焦系统设计方法;基于微分解析法,提出快速变焦法用于优化系统高斯初始结构,减小了外形尺寸.并设计了一焦距3.87 mm~19.35 mm,视场76.6°~17.71°可见光变系统.设计结果表明该变焦系统较之同类专利设计结果,具有结构紧凑、视场大、像面稳定度高的优点.

高分辨宽覆盖遥感相机光学系统研究

作者: 薛鸣球 来源:苏州丝绸工学院学报 日期: 2024-07-16 人气:5521
高分辨宽覆盖遥感相机光学系统研究
本文讨论了高分辨宽覆盖遥感相机光学系统的可能结构形式及其它可能实现的新途径。

光电测量仪器中玻璃微珠反射板的研制

作者: 曹志峰 唐裕霞 张希艳 柏朝晖 来源:光学技术 日期: 2024-04-17 人气:12
光电测量仪器中玻璃微珠反射板的研制
研制了高反射率的玻璃微珠,并制成了玻璃微珠反射板,可替代光电测量仪器中使用的普通平面反射镜.借助于玻璃微珠的正向反射特性,克服了普通平面反射镜由于环境振动导致反射镜振动引起的测量精度下降的缺陷,确保了在动态测量时光学系统的稳定性和测量的精确性.

线阵CCD拼接技术的应用

作者: 余建军 段嘉友 来源:应用光学 日期: 2024-01-19 人气:24
线阵CCD拼接技术的应用
介绍采用性能先进的线阵CCD器件拼接技术实现光学系统的技术要求,给出了使用结果.

微机在非轴对称光学表面加工中的应用

作者: 张元良 刘欣 来源:新技术新工艺 日期: 2024-01-16 人气:25
微机在非轴对称光学表面加工中的应用
根据非轴对称光学表面的特点,研究了一种新的控制方法,解决了国内外同类控制软件占用内存大和控制速度不高等问题,并在国内首先实现非对称光学表面的金刚石车削。

大口径折反射式变焦距物镜的设计

作者: 崔继承 来源:光学精密工程 日期: 2024-01-15 人气:34
大口径折反射式变焦距物镜的设计
介绍了一种大口径变焦距物镜的设计方法。该方法将整体光学系统分为前后两个部分,前端光学系统采用反射式的结构来满足大口径的要求,后端光学系统采用将变焦距物镜倒接的方式,在系统的一次像面处进行组合,通过对后端倒接变焦距物镜的优化设计来保证系统的成像质量。用具体的实例验证说明了该项设计,结果表明这种设计方法是可行的,系统结构简单紧凑,解决了大口径光学系统难以实现连续变焦的问题。

台式快速成型装置的光学系统研究与开发

作者: 杨继全 侯丽雅 章维一 来源:光学精密工程 日期: 2023-08-21 人气:4
台式快速成型装置的光学系统研究与开发
快速成型技术是光学、电子、材料、计算机等多学科集成的高新技术。研制的台式快速成型装置具有体积小、成本低的特点,其制造成本及运行成本仅为同类国外产品的1/10~1/20。论文主要论述了该装置的光学系统设计过程。在首先确定光学系统设计准则的基础上,通过几种类型的光源比较,选择性价比高的紫外灯,并实现了计算机对紫外灯的自动控制,如光的开启、关闭、能量调节等。该光学系统采用椭球镜及圆锥面透镜等使光束聚焦耦合入光纤,在锥度光纤输出端,光束经扩束、准直、聚焦、滤除杂散光后照射在液面处,由计算机控制的工作台带动光纤,实现零件的自动加工。设计的光学系统成本低,光束质量高,性能稳定。

改进型Wollaston棱镜设计

作者: 徐毓娴 蔡昕 张志利 来源:光学精密工程 日期: 2023-08-21 人气:12
改进型Wollaston棱镜设计
介绍了改进型Wollaston棱镜的特点、主要参数及基于这些参数对光学系统结构的设计公式。应用Matlab软件自编程序对分束角ε与棱镜楔角γ和光轴倾角δ之间,相干平面倾角η与棱镜楔角γ和光轴倾角δ之间的关系进行了计算并对结果做了分析,得出一些有实用价值的结论,克服了Wollaston棱镜使用上的局限,因而扩大了它的应用范围。

消除卡塞格林系统杂光的措施

作者: 史光辉 来源:光学精密工程 日期: 2023-08-21 人气:9
消除卡塞格林系统杂光的措施
对卡塞格林系统的杂光进行了分析,并提出了消杂光的措施。

大数值孔径、高次非球面透镜的加工与检验

作者: 郑立功 常军 张学军 程灏波 张峰 来源:光学技术 日期: 2023-05-08 人气:28
大数值孔径、高次非球面透镜的加工与检验
通过一空间相机光学系统中某透镜的高次非球面表面加工过程,提出了一种基于小磨头数控光学表面成型技术(CCOS, Computer control optical surfacing)和非球面轮廓检验、零位补偿检验技术的中等口径高次非球面光学表面的加工、检测方法,并且给出了补偿器实际光学设计结果.文中采用这种方法加工的高次非球面表面,最终精度优于1λ P-V(λ=632.8nm),满足了设计要求.对这种技术的适用范围进行了简明的讨论.
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