对各种转台的角度定位误差进行检测时,光学自准直仪和多面棱体配合法是目前最常用的方法。检测过程中尤其是在距离较大或需要五棱镜改变光路时,自准直仪的对准工作需要测试人员花费很多的时间完成,效率极为低下。本文提出了一种利用激光实现自准直仪对准的新方法。实验证明,该方法极大地降低了对准难度,提高了检测效率。

针对数码相机生产中CCD和光学镜头的对准问题，笔者设计出一种光学镜头的对准系统。采用软、硬件相结合的方法研制出数码相机开发板，利用开发板进行自检测，解决CCD和光学镜头的对准问题，并对数码相机镜头进行有效的检测，运行结果良好。在CCD单侧倾斜〈11μm时，系统不能觉察出成像变化，这对成像系统没有任何影响。同时它对利用CCD的非接触式测量系统的校准有着重要的参考价值。

针对分步压印光刻工艺超高精度的对准要求,论述了一套由光栅、驱动器及激光干涉仪构成的闭环超高精度自对准定位系统.为了消除外界干扰引起的激光干涉仪误差对整个系统精度的影响,系统采用粗精两组光栅和相应两组光强传感器来实现工作台三维位置度的检测. 驱动环节采用宏微两级,相对于粗精两组光栅检测进行驱动,实现了分步式压印光刻的多点定位找准和多层压印的对准要求.为了提高在驱动过程中的定位精度和抗干扰能力,系统采用了精确模型匹配(EMM)算法,最终实现了在压印光刻工艺中,步进精度小于10 nm、多层压印重复对准精度小于20 nm的超高定位精度要求,使系统的整体定位找准精度控制在8 nm以内.