本文介绍了作者研制的一种新型位移传感器－滚动光栅位移传感器，它能在线测量一些特殊的长度量；

对于三等或三等以下量块的检定,受位移传感器测量范围的精度的限制,一直采用比较测量方法.近年来,随着高精度大量程位移传感器的出现,使得采用直接测量方法检定量块成为可能.本文介绍了用大量程位移传感器直接测量量块的方法,并对其不确定度进行了详细分析.

蜗杆检查仪系统是为提高蜗杆加工精度而研制的综合测量系统。该文对蜗杆检测仪系统的误差进行分析，根据误差的特点，提出用样条函数建立数学模型，并对实测数据进行处理。结果表明采用合理的误差修正技术可以提高蜗杆检查仪系统的精度和稳定性，节约内存，是适合同类检测系统误差修正的一种有效方法。

使用正弦曲线拟合进行波长校准时，根据不同的待定系数选择方法，提出三种校准算法．最优算法选定四个待定系数，其中两个线性系数使用最小二乘法计算，而两个非线性系数使用最优化原理求得．线性算法只选定两个线性系数为待定量，而非线性系数为确定值．简化算法仅选定一个线性系数为待定量，其余三个系数为确定值．实测数据表明，线性算法拟合准确度接近最优解，计算复杂度低，是一种最适合于光栅光谱仪波长校准的算法．

针对分步压印光刻工艺超高精度的对准要求,论述了一套由光栅、驱动器及激光干涉仪构成的闭环超高精度自对准定位系统.为了消除外界干扰引起的激光干涉仪误差对整个系统精度的影响,系统采用粗精两组光栅和相应两组光强传感器来实现工作台三维位置度的检测. 驱动环节采用宏微两级,相对于粗精两组光栅检测进行驱动,实现了分步式压印光刻的多点定位找准和多层压印的对准要求.为了提高在驱动过程中的定位精度和抗干扰能力,系统采用了精确模型匹配(EMM)算法,最终实现了在压印光刻工艺中,步进精度小于10 nm、多层压印重复对准精度小于20 nm的超高定位精度要求,使系统的整体定位找准精度控制在8 nm以内.

提出一种光栅式位移测量新方法，利用单个普通低线数计量光栅，实现高分辨率，大量程的位移测量。给出测量光路图，分析测量原理，最后介绍初步原理实验及结果。

光电传感和精密刻划技术 ,是开发精密数显转台的主要技术基础。本文详细介绍基本原理、结构要求、功能特点、工艺试验和精度测试等。样机系列表明 ,其精度和性能基本达到和部分指标超过 (国家 )部颁一级精度的标准。

动态滤波彩色成像系统的基本原理是通过一系列特殊光路，使物体不同部分着不同的颜色，并且可以使物体各部分着上的颜色通过滤波器相互转换。